光学膜厚测量仪的使用特点

光学膜厚测量仪​的使用特点

FGM-T10光学膜厚测量仪利用分光干涉原理精确测量光学或非光学薄膜厚度，测量分辨率达到纳米量级。该仪器具有测量迅速、操作简单、测量结果稳定（高再现性）、用户使用界面易于操作等特点，是目前市场上性价比优良的膜厚测量仪之一，可广泛应用于半导体、医疗和工业生产等领域的薄膜厚度测量。该膜厚仪使用紫外到近红外区域光源，测量范围1nm到500μm，可以测量的膜厚材料包括氧化物、氮化物和保护膜层等常用薄膜材料。

光学膜厚测量仪的原理是白色照明光源垂直照射到待测薄膜，一部分光经过薄膜上表面的反射，返回到分光仪。另一部分透过薄膜上表面，经过薄膜与底层之间的界面反射，返回到分光仪（图1）。这两束光在分光仪的光电转换器表面重合，形成分光干涉条纹。根据分光干涉条纹的周期和薄膜厚度的关系，利用傅立叶变换方法，解析薄膜的厚度。在薄膜厚度解析过程，利用不同类型材料的相应参数修订解析模型，从而进一步提高不同类型材料膜厚测量的准确性。

光学膜厚测量仪的主要特点：

UV/VIS/NIR高分辨率的配置

测量准确度达到1nm重复性为0.1nm

可以测量多层薄膜的厚度

测量范围最小至1nm最大至500µm

提供多种实验台及附件用于复杂外形材料的测量

对表面缺陷和粗糙度不敏感

依据薄膜反射率自动调节照明光源强度

高速、高精度测量，最高测量频率达到300Hz

重量轻、体积小、携带方便、安装简单，易于安装在生产线上

分光干涉测量模式，无任何移动部件，可长时间稳定工作

非接触光学无损测量，测量过程不会对样品造成破坏

提供最佳解析模型，消除不同材料对测量结果的影响

 感谢大家耐心看完膜厚测量仪小编分享的文章，如果有需要了解更多膜厚测量仪和三维形貌仪的相关知识，欢迎联系我们，普瑞微纳24小时竭诚为您服务！