产品简介

【产品简介】

FGM-T10薄膜厚度测量仪利用分光干涉原理精确测量光学或非光学薄膜厚度，测量分辨率达到纳米量级。该仪器具有测量迅速、操作简单、测量结果稳定（高再现性）、用户使用界面易于操作等特点，是目前市场上性价比优良的膜厚测量仪之一。可广泛应用于半导体、医疗和工业生产等领域的薄膜厚度测量。该膜厚仪使用紫外到近红外区域光源，测量厚度范围从1nm到1400μm可选。可以测量的膜厚材料包括氧化物、氮化物以及保护膜层等常用薄膜材料。有多种机型可选，包括常规型、在线型、硅片厚度型、Mapping机型、反射率透过率及颜色机型等。

【测量原理】

在被测量的薄膜上垂直照射可视光，光的一部分在膜的表面反射，另一部分透进薄膜，然后在膜与底层之间的界面反射，薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。利用白光干涉测量法的原理，它用一个宽波段的光源来测得不同波长的反射数据，由于反射率n和k随薄膜的不同而变化，根据这一特性求得膜厚。不同类型材料的相应参数通过不同的模型来描述，从而保证了不同类型材料膜厚测量的准确性。

【系统构成】

【技术参数】

                                                《技术参数表》供您参考，具体指标和配置请与服务人员联系确认！

【型号含义】

【产品图片】 

【其它可选机型】

• 在线测量机型

• 硅片厚度测量机型：含显微系统，测量范围5µm-600µm

• 含Mapping功能机型

• 反射率和透过率测量机型