技术特点

【技术特点】

       1、UV/VIS/NIR高分辨率的配置

       2、测量准确度在1nm、分辨率为0.1nm

       3、可以测量最大10层薄膜

       4、膜厚测量最小至1nm、最大至1400um

       5、可以测量最小10nm厚的透明金属层

       6、提供实验台及附件用于复杂外形材料的测量

       7、对表面缺陷和粗糙度不敏感

【载物平台】

                                   ①                                     ②                                           ③                               

     ①  为高精密通用平台，含垂直方向粗微调和精密倾斜调节，使用于需要频繁调节，测量多种不同厚度的样品；

     ②  为显微镜式载物平台，含垂直方向粗微调和XY方向调节，适用于需要对样品被测区域进行精确定位的测量；

     ③  为高精度调节平台,含垂直方向粗微调和精密倾斜调整,适用于不需要经常调节高度,单一厚度样品的重复测量。

【附件类型】

•   可更换的各类光源灯泡
•   不同类型的基础光谱标定片
•   不同厚度的硅基SiO2标准片（带计量证书）
•   不同芯径和光谱范围的光纤
•   不同工作距离和光斑直径的探头
•   隔震仪器转运箱
•   软件持续免费升级服务

【使用特点】

  1、快速：每次测量只需轻点鼠标，测量结果立即呈现在屏幕上。应用于在线模式下，可在接受到采样信号后，立即测量。

  2、准确：准确度1nm，重复性0.1nm，绝对准确度优于1%，包含数百种材料组成的庞大的材料库，帮助您准确分析薄膜。仪器为光学测量系统，无任何移动部件，不会由于多次测量产生回程等机械运动误差，可长时间稳定工作。

  3、无损：光学非接触无损测量，无须破坏样品进行测量。

  4、灵活：重量约3.5kg，体积320*300*90mm，USB连接方式。携带方便、安装简单，可任意放置于实验室、生产线甚至办公桌上使用。拥有多种特种配件，可适应如非平面测量、显微测量、mapping等特殊需求。

  5、易用：软件界面直观、操作简单、用户体验出色。无需专业知识及复杂的技术培训，预先设置好测试配方，每次重复调用即可。

  6、性价比高：相对于传统膜厚测量设备，仪器拥有非常高的性价比。